Antireflexiós rétegek a fotoreziszt-technológiában A fotorezisztek olyan fényérzékeny bevonatok, amelyeket a fotolitográ fiában alkalmaznak mintázatok átvitelére. Az alapon (szubsztrátumon) vékony (100-1000 nm vastagságú) fotorezisztréteget alakítanak ki, majd azt egy átlátszó és átlátszatlan részekből összeállított maszkon keresztül fénysugár hatásának teszik ki. A fénynek kitett rétegekben fotokémiai átalakulás zajlik le vagy a megvilágítás, vagy az azt követő hőkezelés során.